檢測內(nèi)容

x射線俄歇電子能譜檢測報(bào)告如何辦理？檢測項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照x射線俄歇電子能譜檢測相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測試和評估。做檢測，找百檢。我們只做真實(shí)檢測。

涉及x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)有26條。

國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線俄歇電子能譜涉及到分析化學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、無損檢測、光學(xué)和光學(xué)測量、電子元器件綜合。

在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線俄歇電子能譜涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、綜合測試系統(tǒng)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、光學(xué)測試儀器、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理。

國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法

國家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則

GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實(shí)驗(yàn)測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南

GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定

GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果所需的信息

GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定

國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

ISO 17109:2022表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測定濺射速率的方法

ISO 20903:2019表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果時所需的信息

ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

ISO/TR 19319:2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

美國材料與試驗(yàn)協(xié)會，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

ASTM E996-19俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E996-10(2018)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E995-16俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E995-11在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E996-10俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E996-04俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E996-94(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

BS ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

BS ISO 20903:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

JIS K0167-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測定相對敏感因子的使用指南

法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

NF X21-058-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測定峰強(qiáng)度使用的方法和報(bào)告結(jié)果時需要的信息

，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

KS D ISO 18118-2005(2020)表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實(shí)驗(yàn)測定的相對靈敏度因子的使用指南

KS D ISO 19319-2005(2020)表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定

韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

KS D ISO 19319:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會，關(guān)于x射線俄歇電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

AS ISO 18118:2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實(shí)驗(yàn)測定的相對靈敏系數(shù)使用指南

檢測時間周期

一般3-10天出報(bào)告，有的項(xiàng)目1天出報(bào)告，具體根據(jù)x射線俄歇電子能譜檢測項(xiàng)目而定。

檢測報(bào)告有效期

一般x射線俄歇電子能譜檢測報(bào)告上會標(biāo)注實(shí)驗(yàn)室收到樣品的時間、出具報(bào)告的時間。檢測報(bào)告上不會標(biāo)注有效期。

檢測流程

溫馨提示：以上內(nèi)容僅供參考，更多其他檢測內(nèi)容請咨詢客服。