檢測(cè)內(nèi)容

x射線俄歇電子檢測(cè)報(bào)告如何辦理？檢測(cè)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照x射線俄歇電子檢測(cè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)試和評(píng)估。做檢測(cè)，找百檢。我們只做真實(shí)檢測(cè)。

涉及x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)有64條。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線 俄歇 電子涉及到分析化學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測(cè)量、長(zhǎng)度和角度測(cè)量、無(wú)損檢測(cè)、光學(xué)和光學(xué)測(cè)量、電子元器件綜合。

在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線 俄歇 電子涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、綜合測(cè)試系統(tǒng)、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、光學(xué)測(cè)試儀器、化學(xué)、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理。

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法

國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測(cè)試中確定檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的通則

GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南

GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測(cè)到的樣品面積的測(cè)定

GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果所需的信息

GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測(cè)定

GB/T 21006-2007表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)的線性

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

ISO 17109-2022表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測(cè)定濺射速率的方法

ISO 20903-2019表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)所需的信息

ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

ISO 17109:2015表面化學(xué)分析 - 深度分析 - X射線光電子能譜法中的濺射速率測(cè)定方法 俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜法使用單層和多層薄膜的濺射深度分析

ISO 18118:2015表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.均勻材料定量分析用實(shí)驗(yàn)測(cè)定相對(duì)靈敏度因子的使用指南

ISO 18118-2015表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

ISO 20903-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能普和X射線光電子光譜.通報(bào)結(jié)果所需峰值強(qiáng)度和信息的測(cè)定方法

ISO 20903:2011表面化學(xué)分析——俄歇電子能譜和X射線光電子能譜——報(bào)告結(jié)果時(shí)用于確定峰值強(qiáng)度和所需信息的方法

ISO 18516-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

ISO 18516:2006表面化學(xué)分析——俄歇電子能譜和X射線光電子能譜——橫向分辨率的測(cè)定

ISO 20903:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.報(bào)告結(jié)果時(shí)確定峰值強(qiáng)度和所需信息的方法

ISO 21270:2004表面化學(xué)分析——X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀——強(qiáng)度標(biāo)度線性

ISO 21270-2004表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性

ISO 18118-2004表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

ISO/TR 19319-2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)

ISO/TR 19319:2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.用分析儀觀察橫向分辨率 分析面積和樣品面積的測(cè)定

美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

ASTM E1217-11(2019)用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測(cè)到的信號(hào)的樣品區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E996-19俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E996-10(2018)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E995-16俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1217-11用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測(cè)到的信號(hào)的樣品區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E995-11俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E995-2011在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1217-2011用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測(cè)定影響檢測(cè)信號(hào)樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程

ASTM E996-10俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E996-2010俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E1217-05用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測(cè)到的信號(hào)的樣品區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E1217-2005用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測(cè)定影響檢測(cè)信號(hào)的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范

ASTM E996-04俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E995-04俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E996-2004俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E1217-00用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測(cè)到的信號(hào)的樣品區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E1217-2000用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測(cè)定影響檢測(cè)信號(hào)的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范

ASTM E996-94(1999)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E995-97俄歇電子和X射線光電子能譜中背景差減技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E996-1994(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

BS ISO 18118-2015表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性系數(shù)的使用指南

BS ISO 20903-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息

BS ISO 20903-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息

BS ISO 18516-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

BS ISO 21270-2005表面化學(xué)分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性度

BS ISO 18118-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性系數(shù)的使用指南

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

JIS K0167-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感因子的使用指南

法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

NF X21-058-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測(cè)定峰強(qiáng)度使用的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)需要的信息

，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

KS D ISO 19319-2005(2020)表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測(cè)定

KS D ISO 21270-2005(2020)表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強(qiáng)度標(biāo)度的線性

KS D ISO 18118-2005(2020)表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏度因子的使用指南

韓國(guó)標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

KS D ISO 18118-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

KS D ISO 21270-2005表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性

KS D ISO 21270-2005表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性

KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)

KS D ISO 18118-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線 俄歇 電子的標(biāo)準(zhǔn)

AS ISO 18118-2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏系數(shù)使用指南

檢測(cè)時(shí)間周期

一般3-10天出報(bào)告，有的項(xiàng)目1天出報(bào)告，具體根據(jù)x射線俄歇電子檢測(cè)項(xiàng)目而定。

檢測(cè)報(bào)告有效期

一般x射線俄歇電子檢測(cè)報(bào)告上會(huì)標(biāo)注實(shí)驗(yàn)室收到樣品的時(shí)間、出具報(bào)告的時(shí)間。檢測(cè)報(bào)告上不會(huì)標(biāo)注有效期。

檢測(cè)流程

溫馨提示：以上內(nèi)容僅供參考，更多其他檢測(cè)內(nèi)容請(qǐng)咨詢客服。