檢測(cè)內(nèi)容

x射線光電子光譜檢測(cè)報(bào)告如何辦理？檢測(cè)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照x射線光電子光譜檢測(cè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)試和評(píng)估。做檢測(cè)，找百檢。我們只做真實(shí)檢測(cè)。

涉及x射線光電子光譜的標(biāo)準(zhǔn)有23條。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子光譜涉及到分析化學(xué)、光學(xué)和光學(xué)測(cè)量、醫(yī)療設(shè)備、表面處理和鍍涂、金屬的腐蝕。

在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子光譜涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、化學(xué)。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線光電子光譜的標(biāo)準(zhǔn)

ISO 20903:2019表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)所需的信息

ISO 18554:2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對(duì)材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評(píng)估和修正程序

ISO 18118:2015表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

ISO 20903:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能普和X射線光電子光譜.通報(bào)結(jié)果所需峰值強(qiáng)度和信息的測(cè)定方法

ISO 18516:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

ISO 24237:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜法.強(qiáng)度的可重復(fù)性和穩(wěn)定性

ISO 18118:2004表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電子光譜的標(biāo)準(zhǔn)

ASTM E995-16俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E2735-14選擇X射線光電子光譜40;XPS41試驗(yàn)所需校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E2735-13X射線光電子光譜法 (XPS) 試驗(yàn)所需校準(zhǔn)選擇的標(biāo)準(zhǔn)指南

英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線光電子光譜的標(biāo)準(zhǔn)

BS ISO 18554:2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對(duì)材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評(píng)估和修正程序

BS ISO 18118:2015表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性系數(shù)的使用指南

BS ISO 18516:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

BS ISO 18118:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性系數(shù)的使用指南

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于x射線光電子光譜的標(biāo)準(zhǔn)

JIS K0167-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感因子的使用指南

JIS T0306-2002用X射線光電子光譜法分析金屬生物材料形成的無(wú)源膜的狀態(tài)

法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電子光譜的標(biāo)準(zhǔn)

NF X21-061-2008表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

NF X21-058-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測(cè)定峰強(qiáng)度使用的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)需要的信息

韓國(guó)科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于x射線光電子光譜的標(biāo)準(zhǔn)

KS D ISO 18118:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電子光譜的標(biāo)準(zhǔn)

AS ISO 15472:2006表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

AS ISO 19319:2006表面化學(xué)分析．Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法．分析員對(duì)橫向分辨率；分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)

AS ISO 18118:2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏系數(shù)使用指南

AS ISO 15470:2006表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．選定儀器性能參數(shù)的描述

檢測(cè)時(shí)間周期

一般3-10天出報(bào)告，有的項(xiàng)目1天出報(bào)告，具體根據(jù)x射線光電子光譜檢測(cè)項(xiàng)目而定。

檢測(cè)報(bào)告有效期

一般x射線光電子光譜檢測(cè)報(bào)告上會(huì)標(biāo)注實(shí)驗(yàn)室收到樣品的時(shí)間、出具報(bào)告的時(shí)間。檢測(cè)報(bào)告上不會(huì)標(biāo)注有效期。

檢測(cè)流程

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